無油真空泵在電子技術(shù)領(lǐng)域的應(yīng)用
2019/1/7 9:19:51
無油真空泵
真空泵
好凱德
通常我們在選擇真空泵時多根據(jù)實際工況需要的真空度來選擇真空泵的類型,依據(jù)抽氣量來選擇真空泵的抽速的。當然還有其他因素影響真空泵的應(yīng)用,比如說真空電子技術(shù)領(lǐng)域里還應(yīng)考慮工藝環(huán)境的清潔情況,實際工藝過程以及泵浦里面的反應(yīng)氣體和反應(yīng)產(chǎn)物的顆粒。
好凱德無油真空泵應(yīng)用較為廣泛的兩個領(lǐng)域有半導(dǎo)體以及LCD制造,用于無反應(yīng)氣體抽出的場合有:上、下卸料室,轉(zhuǎn)移室,液晶注入,Color Filter等,雅之雷德機電科技用于有反應(yīng)氣體抽出的場合有:離子注入,刻蝕,拋光,LPCVD, PECVD等。在CVD生產(chǎn)中要求真空泵抽出反應(yīng)生成物和NF3,C2F6, HCl等清洗氣體。
一般工藝中的應(yīng)用:
(1)N2清洗 N2清洗的目的是稀釋真空泵內(nèi)部的反應(yīng)氣體;為泵的轉(zhuǎn)軸提供密封;防止真空泵排氣口滲入空氣及水分。N:清洗的氣體量可根據(jù)需要調(diào)整。
(2)配冷阱 冷阱通常是裝在真空泵的吸氣口及排氣口位置,目的是減少反應(yīng)生成物滲入到泵的量,減輕真空泵的負擔;減輕廢氣處理的負擔。
(3)溫度控制 根據(jù)工藝過程反應(yīng)生成物的不同,為防止其附著在泵內(nèi),對無油機械真空的排氣口加熱,或?qū)ι衔槐脤嵭袦囟瓤刂啤?/p>
(4)在線清洗 在用LPCVD法制備氯化膜的過程中,會生出副產(chǎn)物氯化銨(NH4Cl),氯化銨能溶于水。利用這一特性,對單級立式無油機械真空泵可進行在線自動清洗,不必將泵拆離生產(chǎn)線就能用洗液做清洗工作。
CVD工藝中的應(yīng)用
利用LPCVD工藝制備絕緣膜或半導(dǎo)體膜時,有機矽烷系統(tǒng)(TEOS)原料呈液體狀態(tài),TEOS與反應(yīng)副產(chǎn)物混合,形成凝膠狀而堵塞真空泵排氣口,這時在排氣口應(yīng)加冷阱。
利用PECVD工藝制備絕緣膜時,TEOS的反應(yīng)副產(chǎn)物以白色粉末狀通過真空泵,因此應(yīng)選用非接觸型真空泵。清洗氣體使用NF3、C2F6等與上述反應(yīng)副產(chǎn)物結(jié)合,再形成另一種副產(chǎn)物,對真空泵有不良影響,此時可利用降低真空泵溫度的方法解決。
干蝕刻工藝中的應(yīng)用
蝕刻工藝可分為鋁質(zhì)金屬蝕刻、多晶矽類的蝕刻、氧化膜的蝕刻等,金屬類的蝕刻會產(chǎn)生大量反應(yīng)副產(chǎn)物,對真空泵的負荷會很大。
多晶矽膜、氧化矽膜等的蝕刻使SF6等氣體,反應(yīng)副產(chǎn)物較少,升華溫度較低,可以氣態(tài)形式排出泵外。鋁質(zhì)金屬的蝕刻則使用三氯化硼等氯化氣體,會產(chǎn)生大量的四氯化鋁,升華溫度高,很容易附著在溫度低的部位,未發(fā)生反應(yīng)的氣體又多半屬于腐蝕性較強的。在欽的蝕刻中常使用氟化系氣體,其特性類似于氯化系氣體。
鈦蝕刻生產(chǎn)中多用到氟、氯、溟化物系等腐蝕性較強的氣體,這些氣體與水結(jié)合變成強酸,有強烈腐蝕性。因此,要求無油真空泵和管道材料具有高度耐腐蝕性。